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布魯克納米紅外光譜與成像系統(tǒng)nanolR3-S
布魯克納米紅外光譜與成像系統(tǒng)nanolR3-S 原子力顯微鏡（AFM）的納米紅外光譜（AFM-IR）是一種將AFM的高空間分辨率與紅外光譜的化學分析能力相結合的新技術。該技術通過使用原子力顯微鏡的針尖來局部檢測樣品因紅外輻射的局部吸收而產生的熱膨脹信號，突破了傳統(tǒng)紅外顯微光譜由于光衍射而引起的空間分辨率限制，可實現(xiàn)優(yōu)于10nm空間分辨，單分子層靈敏度的納米紅外光譜和紅外成像。

更新時間：2026-03-30 訪問量：44 型號：
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德國BRUKE中國代理白光干涉儀ContourX-1000
德國BRUKE中國代理白光干涉儀ContourX-1000，專為高效獲取高精度三維表面紋理與粗糙度測量而設計。該系統(tǒng)融合了布魯克三十余年的技術創(chuàng)新與全新專有軟件，在保持優(yōu)異測量效率和高重復性的同時，進一步簡化操作流程。其憑借出色的穩(wěn)定性與易用性，可廣泛應用于各類精密表面計量場景。

更新時間：2026-03-26 訪問量：59 型號：
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德國BRUKE中國代理白光干涉儀NPFLEX-1000
德國BRUKE中國代理白光干涉儀NPFLEX-1000是一款高精度立式白光干涉儀，專為精密加工領域的QA/QC設計，提供從納米到宏觀級別的高靈活性表面測量方案。其獨特的結構設計兼容多種樣品尺寸與形狀，輕松應對復雜測量角度。該系統(tǒng)在汽車、醫(yī)療及增材制造等行業(yè)中，可輸出符合量規(guī)級精度（GRR）要求的表面紋理與粗糙度數(shù)據(jù)，兼具高重復性與高產能。

更新時間：2026-03-26 訪問量：62 型號：
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德國BRUKER薄膜光學測量系統(tǒng)FilmTek 2000M
德國BRUKER薄膜光學測量系統(tǒng)FilmTek 2000M基于非接觸式光學技術，集成光譜反射、光譜橢偏及多角度聯(lián)用等多種配置，內置先*材料模型與全局優(yōu)化算法，可快速、無損、高精度同步測定薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)等參數(shù)。專*MADP與DPSD技術實現(xiàn)折射率分辨率高達2×10??，測量范圍覆蓋從亞原子層到超百微米厚度。廣泛應用于半導體、光電子、封裝及硅光子學等領域，為薄膜表征提供精準可靠的解決方案。

更新時間：2026-03-23 訪問量：74 型號：
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FilmTek 2000德國BRUKER中國代理商薄膜光學測量系統(tǒng)
德國BRUKER中國代理商薄膜光學測量系統(tǒng)基于非接觸式光學技術，集成光譜反射、光譜橢偏及多角度聯(lián)用等多種配置，內置先*材料模型與全局優(yōu)化算法，可快速、無損、高精度同步測定薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)等參數(shù)。專*MADP與DPSD技術實現(xiàn)折射率分辨率高達2×10??，測量范圍覆蓋從亞原子層到超百微米厚度。廣泛應用于半導體、光電子、先*封裝及硅光子學等領域，為薄膜表征提供精準可靠的解決方案。

更新時間：2026-03-23 訪問量：63 型號：FilmTek 2000
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德國BRUKE中國代理白光干涉儀ContourX-500
德國BRUKE中國代理白光干涉儀ContourX-500：具備性價比的ContourX-200光學輪廓儀為精確的、可重復的、非接觸式表面測量樹立了新基準。占地面積小，融合了布魯克幾十年的專*白光干涉（WLI）創(chuàng)新技術，具有強大的二維/三維高分辨測量能力。

更新時間：2026-03-19 訪問量：84 型號：
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